光刻机原理 进来看看

1、光刻机制作芯片的过程。基本和“冲印照片”一样。假设拍的是风景。胶片上会有曝光痕迹。先要在暗室里显影。让风景在胶片上显示出来。然后在红光下通过放大机。把胶片上的风景投射到相纸上。让相纸曝光。再通过相纸的显影、定影、烘干得到最终的照片。除了风景之外。“照片冲印”需要有胶片。有光源、放大机、相纸。

2、对光刻机来说。所谓“风景”就是设计好的集成电路图(IC)。“胶片”就是一块石英板(光罩)。用来记录集成电路图。“相纸”就是硅晶圆。“放大机”就相当于光刻机。

3、所不同的是。洗照片是放大。把小胶片放大到相纸上。光刻机是缩小。把电路图缩小到晶圆上。

4、在光刻机领域。有三家国际大牌:荷兰ASML(艾斯摩尔)。日本Nikon(尼康)。日本Canon(佳能)。但高端光刻机市场。荷兰ASML是无可争议的世界霸主。把第二名都甩得很远。因为技术难度太高、需要的投资太大。尼康、佳能已经放弃EUV光刻机的研发。

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