大家好，张承辉博客来为大家解答以上问题。显影液的成分，去胶液、显影液的成分是什么啊？很多人还不知道，现在让我们一起来看看吧！
1、 半导体工艺——光刻紫外负光刻胶显影剂：二甲苯。
2、清洗液：醋酸丁酯或乙醇三氯乙烯。
3、发展中的常见问题：不完全发展。
4、光致抗蚀剂残留在表面上。
5、显影剂不足造成的。
6、b不发达。
7、展开的侧壁不垂直。
8、开发时间不足造成的。
9、过度开发。
10、表面附近的光刻胶被显影剂过度溶解，形成台阶。
11、发展时间太长造成的。
本文到此结束，希望对大家有所帮助。